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半導體研磨廢水中的硅如何處理

來源:無錫純水設(shè)備??????2022/11/10 10:29:35??????點擊:
無錫水處理設(shè)備http://www.tuanmiwang.com水中硅以兩種形態(tài)存在,活性硅(單體硅)和膠體硅(多元硅):膠體硅沒有離子的特征,但尺度相對較大,膠體硅能被精細的物理過濾過程所截留,如反滲透,也可以通過凝聚技術(shù)降低水中的含量,如混凝澄清池,但是那些需要依靠離子電荷特征的分離技術(shù),如離子交換樹脂和連續(xù)電去離子過程(CDI),對脫除膠體硅效果十分有限。

純水設(shè)備活性硅的尺寸比膠體硅小得多,這樣大多數(shù)的物理過濾技術(shù)如混凝澄清、過濾和氣浮等均無法脫除活性硅,能夠有效脫除活性硅的過程是反滲透、離子交換和連續(xù)電去離子過程。蘇州皙全皙全純水設(shè)備公司可根據(jù)客戶要求制作各種流量的純水設(shè)備實驗室純水設(shè)備,GMP醫(yī)用純化水設(shè)備,半導體超純水設(shè)備。 

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